포스텍 홍영준씨 유럽재료공학연구학회'젊은 과학자상'

3차원 나노소자 집적화 기술 개발

포스텍 신소재공학과 박사과정에 재학 중인 홍영준(28) 씨가 기존 공정을 이용하면서도 3차원 나노소자의 집적화가 가능한 기술 개발로 올해 유럽재료공학연구학회(E-MRS) 춘계세미나에서 '젊은 과학자상'을 수상했다.

11일 포스텍에 따르면 홍 씨는 지난 1일 반도체 나노막대를 실리콘 기판의 '원하는 위치'에 '수직으로' 선택 성장시킬 수 있는 기술과 원리를 개발해 최근 프랑스 스트라스부르에서 열린 학회 세미나를 통해 발표했다.

홍 씨는 이 자리에서 '질화갈륨 마이크로패턴을 이용한 실리콘 기판에서의 비촉매 산화아연 나노막대의 위치조절 선택성장'이라는 논문을 통해 나노막대를 질화갈륨 마이크로패턴을 이용해 실리콘 기판의 원하는 위치에 선택 성장시키는 기술을 공개했다.

홍 씨는 "이 기술은 대량 제작 공정에도 적용할 수 있어 3차원 나노소자의 집적화에 도움이 되고, 소자의 집적도를 크게 높일 수 있어 하나의 칩에 더 많은 소자를 넣을 수 있을 것"이라고 설명했다.

지금까지는 3차원 나노소자에 쓰이는 나노막대를 원하는 위치에 수직으로 성장시키는 방법이 매우 어려워 전 세계적으로도 이 기술을 가지고 있는 연구그룹이 두세 그룹에 불과하고, 특히 실리콘 기판 위에 성장시킨 사례는 거의 없었다고 포스텍 측은 밝혔다.

유럽재료공학연구학회 세미나는 2천여 명의 관련 학자들이 참석해 700명 이상이 논문을 발표하는 권위 있는 행사이며, 홍 씨가 수상한 '젊은 과학자상'은 18개 분과에서 발표된 논문 중 가장 우수한 논문을 발표한 18명에게 수여된다.

포항·박정출기자 jcpark@msnet.co.kr