삼성전자와 네덜란드 반도체 장비 업체 ASML이 1조원을 들여 국내에 연구개발(R&D)센터를 짓기로 했다. 양해각서(MOU) 체결은 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문을 계기로 이뤄졌다.
12일(현지시간) 삼성전자와 ASML은 내년부터 총 1조원을 투입해 차세대 반도체 제조 기술을 연구하는 센터를 설립하고 공동으로 운영하는 내용의 MOU를 네덜란드 ASML 본사에서 맺었다.
SK하이닉스는 ASML과 극자외선(EUV) 노광장비에 사용할 수소가스를 재활용하는 기술을 공동 개발하기로 했다. 이 기술이 상용화되면 EUV 한 대당 전력 사용량을 20% 감축할 수 있다.
ASML은 반도체 초미세 공정에 필요한 극자외선(EUV) 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업이다.

▶이날 윤 대통령은 이재용 삼성전자 회장, 최태원 SK그룹 회장 등과 함께 ASML 본사를 찾았다. 빌럼 알렉산더르 네덜란드 국왕도 동행했다.
윤 대통령은 특히 외국 정상으로는 처음으로 ASML '클린룸'에 들어가 2나노미터(nm·1nm는 10억분의 1m) 이하 반도체 생산에 투입되는 차세대 EUV 장비 제조 과정을 직관했다.
2나노미터 공정에 먼저 다가가려는 경쟁이 치열한 가운데 ASML이 윤 대통령의 방문에 맞춰 2나노미터 반도체 생산 장비를 최초로 대외 공개한 것은 매우 의미가 깊다고 대통령실은 설명했다.
▶윤 대통령은 이날 글로벌 반도체 장비 기업 ASML 본사에서 열린 기업인 간담회에서 "한·네덜란드 기업의 반도체 협력 프로젝트 성공을 위해 양국 정부 간 직접 소통을 강화하고 필요한 모든 지원을 할 것"이라며 "한국과 네덜란드 반도체 동맹이 더욱 굳건해지는 계기가 되길 바란다"고 밝혔다.
이어 "오늘 방문은 제 해외 순방 중 첫 번째 기업 방문"이라며 "한국 기업들과 긴밀히 협력해 반도체 혁신과 글로벌 공급망 안정화 노력에 기여해주시길 바란다"고 ASML 측에 당부했다.
그러면서 "오늘 이뤄지는 ASML과 삼성·SK하이닉스 간 투자 협력에 매우 기쁘게 생각한다"며 "ASML과 삼성은 향후 1조원을 투자해 반도체 연구개발(R&D) 센터를 한국에 건설하고, SK하이닉스는 생산 과정에서 전력 소비를 획기적으로 줄이는 수소 자원 친환경 공정을 함께 개발하기로 했다"고 소개했다.
아울러 "내년 2월에 ASML 주도로 한·네덜란드 대학원생 엔지니어가 함께 참여하는 첨단 반도체 아카데미가 개설되는데, 양국이 함께 인재를 키워낸다는 점에서 의미가 크다고 볼 수 있다"고 덧붙였다.
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