제일모직, KAIST 나노센터와 연구 협약

제일모직은 9일 한국과학기술원(KAIST) 부설 나노종합팹(fab)센터와 연구 지원 협약을 체결하고, 나노(10억분의 1m) 기술 개발에 뛰어들었다.

연구지원 협약 체결의 일등 공신은 제일모직 구미공장에서 생산하는 CMP 슬러리. 반도체 등 초정밀 제품의 연마제로 쓰이는 CMP 슬러리는 나노소재 개발의 핵심 부품 중 하나다.

이번 협약으로 나노종합팹센터는 지난해 국내 시장 점유율 1위로 올라서며 품질 경쟁력을 확인한 제일모직 CMP 슬러리를 공급받을 수 있게 됐고, 제일모직또한 나노종합팹센터와의 공동 연구개발을 통해 향후 나노시대를 주도할 수 있는 중요한 전기를 마련할 것으로 보인다.

CMP(Chemical Mechanical Polishing, 화학.물리적 연마) 공정은 모래알로 솥을 갈 듯 초정밀 제품의 표면을 평탄화하는 제조기술. 90년대 이후 반도체 핵심 공정으로 주목받기 시작했다.

CMP 슬러리(Slurry, 시멘트.점토.석회 등과 물의 혼합물)가 나노단위 물질을 연마할 수 있는 이유는 슬러리내 주성분인 실리카 또한 나노 크기이기 때문이다.

삼성그룹의 모태로 직물, 패션업체로 출발해 90년대 후반 전자재료에 눈을 돌린 제일모직은 일본 의존도가 높았던 삼성전자에 반도체 연마용 CMP 슬러리를 납품, 윈-윈 효과를 거두고 있다.

이상준기자 all4you@imaeil.com