중국 반도체회사로 이직하면서 최소 수십조원 가치의 삼성전자의 핵심 기술을 유출한 전직 삼성 임직원들이 무더기로 재판에 넘겨졌다.
서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 김윤용)는 23일 삼성전자 임직원 출신인 A씨 등 5명을 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설 등) 및 산업기술보호법 위반(국가핵심기술국외누설 등) 혐의로 구속기소 했다.
중국 창신메모리(CXMT) 개발팀 직원 등 5명 또한 같은 혐의로 불구속기소 됐다. CXMT는 중국 지방정부 및 중국 반도체 설계회사의 출자로 지난 2016년 설립된 중국 최초의 D램 반도체회사다.
검찰에 따르면 CXMT는 설립 직후 삼성전자 부장 출신 A씨를 '개발실장'으로 영입했다.
이후 A씨는 당시 삼성전자의 독자 기술이었던 '10나노대 D램 공정 기술'을 빼내기 위해 공정별 핵심 인력 영입을 추진했다. 이 과정에서 A씨는 위장 회사를 만든 뒤 주기적으로 사무실을 변경하고, 출국금지·체포에 대비한 암호를 만드는 등 용의주도하게 움직였다.
삼성전자 연구원이었던 B씨는 D램 공정의 핵심 PRP(Process Recipe Plan) 정보를 자필로 베껴 적어 CXMT로 이직했다. 이에 CXMT는 당시 세계 유일의 10나노대 D램 공정 기술을 통째로 확보하게 됐다.
이후 CXMT는 삼성전자 임직원들을 추가로 영입하며 본격적인 D램 개발에 착수했다. 개발 과정에서는 협력업체를 통해 SK하이닉스의 반도체 공정 관련 기술까지 추가로 입수했다.
한국의 핵심 반도체 기술을 모두 갖게 된 CXMT는 결국, 지난 2023년 중국 최초이자 세계에서 4번째로 10나노대 D램 양산에 성공했다.
검찰은 A씨 등 일당의 범행으로 한국 기업의 핵심 산업 기술이 유출되고, 막대한 경제적 피해가 발생했다고 지적했다.
검찰이 범행 이후 세계 시장 점유율 변화를 근거로 삼성전자의 지난해 매출액 감소 규모를 추정한 결과, 약 5조원에 달했다. 이에 더해 범행이 향후 국가 경제 전반에 미칠 악영향을 모두 고려하면 피해액이 최소 수십조원에 달할 것이라는 게 검찰 판단이다.
검찰은 "직접 수사를 통해 국내에서 발생한 유출 범행은 물론, 중국 현지에서 이뤄진 개발 범행의 전모를 밝혀 처벌했다"며 "앞으로도 국가 경제 및 기술 안보를 위협하는 산업기술의 국외 유출 범죄에 엄정 대응하겠다"고 강조했다.





























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