韓·中·日, 특허제도 통일 추진

한·중·일 3국이 특허와 디자인 등 산업재산권 제도 통일을 추진한다.

한·중·일 3국 정부는 3국간 국제특허출원 절차를 간소화하고 서로 다른 심사방식의 통일을 추진하기 위해 당국자 간 실무회의를 시작하기로 했다고 니혼게이자이(日本經濟) 신문이 26일 보도했다.

실무회의에는 한·일 양국 특허청 실무자와 중국 지식재산국 당국자가 참가하며 이후 장관급 회의를 정기적으로 열어 제도통일 논의를 본격화하기로 했다.

회의에서는 디자인 의장특허의 인정점위 통일 방안이 맨 먼저 논의될 것으로 알려졌다.

한국과 일본은 예를 들어 승용차의 라이트 부분 등 제품의 일부분에도 의장등록을 인정하고 있으나 중국은 승용차 전체의 의장등록만을 인정하고 있다.

이에 따라 한국 또는 일본차의 앞 부분을 중국 업체가 고스란히 모방하더라도 뒷부분 디자인을 조금만 달리하면 의장등록 침해에 해당하지 않는다.

한국과 일본은 '부분 의장'도 인정할 것을 중국에 요청하고 있다.

또 한국과 일본은 특허침해 우려가 있을 때 해당 안건을 우선적으로 심사해 특허를 빨리 내주는 우선심사제도를 채택하고 있으나 중국은 공공목적의 발명을 제외하고는 우선심사제도를 인정하지 않고 있다.

최종단계에서는 특허심사기준 통일도 추진한다는 계획이다.

심사기준이 통일되면 기업의 생산 및 판매가 3국 내에서 한꺼번에 이뤄질 수 있게 돼 장차 자유무역권 창설에 탄력이 붙을 것으로 기대된다.

(도쿄연합)