나노패턴을 실리콘 기판 위에 실현하는 기술이 개발돼 초고밀도 반도체 시장의 도약이 기대된다.
포스텍은 김진곤 교수(화학공학과'사진)와 한성현 박사 연구팀이 미국 텍사스주립대학의 밴캣 가네산 교수팀과 공동으로 수소결합을 이용, 불가능하게 여겨졌던 비대칭 나노패턴을 실리콘 기판 위에 수직으로 정렬하는 기술을 개발했다고 31일 밝혔다.
이번 연구는 간단한 수소 결합으로 계면의 구조를 조절하면 나노구조가 변한다는 원리를 이용했다는 점에서 이 기술은 기존 나노 크기의 회로를 패턴으로 기록하는 리소그라피의 새로운 대안으로 평가받고 있다.
연구팀이 수소 결합을 활용한 기술을 개발하기 전까지 나노패턴은 비대칭적인데다 폭 간격이 몇 나노미터(머리카락의 10만분의 1)에 불과해 이를 활용하는 기술 자체가 불가능한 것으로 알려졌다.
포항'박승혁기자 psh@msnet.co.kr
































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